快捷搜索:

中国光刻机现状曝光 台积电绝望:悔不该当初

前两天,美改动其产品出口规则,意欲迫使台积电对华为断供芯片。

芯片对一个国家的紧张性不言而喻,自然,面对美国的这种封杀,中国弗成能无动于衷,已经走出新的一步。

根据每经网消息,5月15日,国家集成电路基金等多方批准分手向中芯国际注资15亿美元及7.5亿美元,按当下汇率为107亿元、53亿元。

这无疑是一个好消息,意味着国家正在花大年夜力气作育自己的芯片财产。

今朝,中国的芯片技巧与财产同国外顶尖水平比拟还有不小的差距,此中以中芯国际最为厉害,今朝已能量产14nm芯片,正常环境下,今年事尾能量产7nm。

纵然如斯,与台积电等顶尖企业照样有二三年的差距,由于这个水平台积电在2年前就已经搞定了,今朝台积电正在攻关5nm工艺。

中国芯片的最大年夜难度,不在芯片设计,芯片设计我们做得很好,像华为海思便是此中的精彩代表;也不在制作工艺,只要有足够好的机械,以中芯国际今朝的水平要追上去,不是难事。

然则,假如没有更好的光刻机,中芯国际冲要破比7nm更高的工艺,难度就很大年夜。

中国芯片最大年夜的难题照样在光刻机。

中芯国际向ASML订了一台最先辈的EUV极紫外光刻机,蓝本2019年就要到货的,结果由于美国的阻止,ASML得不到荷兰政府的出口许可,至今未交付。

中国的光刻机现状若何?

中国着实也有光刻机。

早在1977年,我们就搞出了第一台名为GK-3的光刻机,机能不算太先辈,但好歹是有了。

1982年,中科院109厂的KHA-75-1光刻机,与当时最先辈的佳能,差距不到4年;

但80年代,中国开始有了“造不如买”的思惟,硬是让中国光刻机技巧故步自封将近20年;

直到2002年,中国才重启光刻机研制,上海微电就是这一背景下的产物;

您可能还会对下面的文章感兴趣: